Intel ha puesto en marcha oficialmente el desarrollo de sus tecnologías de fabricación de chips de próxima generación, con los nodos 10A (equivalente a 1 nanómetro) y 7A (0.7 nanómetros).
Intel 10A y 7A están programados para la próxima década
Estos procesos sucederán a los actuales nodos 18A y al futuro 14A, con un horizonte de lanzamiento previsto para la próxima década. Con este anuncio, la compañía estadounidense busca consolidar la confianza de sus socios ofreciendo una hoja de ruta clara y predecible para los próximos años.
Durante la Conferencia Global de Tecnología, Medios y Comunicaciones de JP Morgan, Lip-Bu Tan, miembro de la junta directiva de Intel, destacó que la industria de semiconductores no compra productos individuales, sino visiones de futuro. Para asegurar contratos comerciales a largo plazo, es importante garantizar las tecnologías de fabricación con años de antelación. Ambos nodos 10A y 7A, emplearán presumiblemente las herramientas de litografía ultravioleta extrema High-NA EUV de la firma ASML.
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Por otra parte, Intel confirmó que el desarrollo de su nodo 14A avanza según como estaba programado. Tras el lanzamiento de la versión 0.5 del PDK a principios de año, que permite a los diseñadores crear chips de prueba para evaluar el rendimiento, la compañía se prepara para liberar 0.9 del PDK en octubre. Un paso importantísimo porque quiere que el diseño del nodo estará prácticamente terminado como para comenzar a fabricar chips en volumen con este nodo.
Aunque Intel ya ha captado el interés de múltiples clientes externos para el nodo 14A, los nombres se mantienen bajo estricta confidencialidad. Los equipos internos de Intel recibirán la actualización del PDK antes que el resto del mercado. Con esta estrategia, Intel reafirma su compromiso de recuperar el liderazgo en la fabricación, un segmento donde antes era un líder. Os mantendremos informados.
